Bakalárska práca: Optické vlastnosti tenkých vrstiev pre fotoniku
Skryť detaily | Obľúbený- Kvalita:55,8 %
- Typ:Bakalárska práca
- Univerzita:Univerzita Pavla Jozefa Šafárika v Košiciach
- Fakulta:Fakulta verejnej správy
- Kategória:Prírodné vedy
- Podkategória:Fyzika
- Autor:catlin
- Dokumentácia:Stiahni
- Rozsah A4:25 strán
- Zobrazené:1 291 x
- Stiahnuté:0 x
- Veľkosť:5,9 MB
- Formát a prípona:MS Office Word (.doc)
- Jazyk:slovenský
- ID projektu:25976
- Posledna úprava:20.08.2009
Fotonika je jedna z rýchlo sa rozvíjajúcich odvetiev optiky a optoelektroniky zahrňujúca emisiu, transmisiu, detekciu, amplifikáciu, moduláciu
a prepínanie svetla. Jeden zo študovaných materiálov pre prípravu vlnovodov a ďalšie pasívne optické prvky je polovodič CdTe. Cieľom práce je charakterizovať tenké vrstvy CdTe (100nm-1000nm) pripravené na rôznych typoch podložiek (Si, zafír, sklo) niekoľkými optickými metódami a stanoviť, ktorá podložka je pre prípravu kvalitných vrstiev najvýhodnejšia. Základnou metódou ku štúdiu bude slúžiť nízkoteplotná fotoluminiscencia. Táto bezkontaktná metóda umožňuje stanoviť kvalitu materiálu analýzou spektrálnej závislosti a
z nej môžeme určiť prítomnosť jednotlivých typov porúch. K meraniu bude použitá aparatúra zostávajúca z laditeľného Ti-zafírového laseru a kryostátu pre meranie pri teplote kvapalného Hélia (4.2K). Na určenie povrchovej charakteristiky vzoriek bude použitý profilový interferometer Zygo.
a prepínanie svetla. Jeden zo študovaných materiálov pre prípravu vlnovodov a ďalšie pasívne optické prvky je polovodič CdTe. Cieľom práce je charakterizovať tenké vrstvy CdTe (100nm-1000nm) pripravené na rôznych typoch podložiek (Si, zafír, sklo) niekoľkými optickými metódami a stanoviť, ktorá podložka je pre prípravu kvalitných vrstiev najvýhodnejšia. Základnou metódou ku štúdiu bude slúžiť nízkoteplotná fotoluminiscencia. Táto bezkontaktná metóda umožňuje stanoviť kvalitu materiálu analýzou spektrálnej závislosti a
z nej môžeme určiť prítomnosť jednotlivých typov porúch. K meraniu bude použitá aparatúra zostávajúca z laditeľného Ti-zafírového laseru a kryostátu pre meranie pri teplote kvapalného Hélia (4.2K). Na určenie povrchovej charakteristiky vzoriek bude použitý profilový interferometer Zygo.